激光刻痕细化磁畴方法
发布时间:2017-11-08 06:38
作者:互联网
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传统上
硅钢板经过的细化
磁畴处理后,在500℃以上
退火时,产生的应变发生
回复,细化磁畴效果消失,这种方法称为非耐
热型细化磁畴法。细化磁畴效果不因退火而消失的方法称为耐热型细化磁畴法。依靠耐热型细化磁畴法
生产的
硅钢片,因为能够明显降低
铁损,从而成为制造卷
铁芯
变压器的首选材料。耐热型细化磁畴技术主要包括三类:
机械刻痕法、
激光刻痕(成槽或
熔融凝固层)法和化学蚀刻法。全球耐热型细化磁畴技术的研究主要是在激
光刻痕法和化学蚀刻法。激光刻痕法采用照射能量为几个毫焦的半宽脉冲式或连续式激光束,以点状或线状沿与轧向垂直的方向,以一定的间距照射在带有绝缘膜的成品
钢带表面。激光刻痕细化磁畴方法主要有:1、激光刻痕形成熔融凝固层法是采用激光单面或者双面辐照
钢板,适当
控制辐照时间和
功率密度,使辐照部分的
金属基体
熔化但是不蒸发,熔融部分再次凝固,由此形成熔融凝固层。熔融凝固层的深度至少在15μm以上,宽度在30~200μm,沿轧向间距为2~5mm。但是采用该方法
改善铁损的效果不如形成物理沟槽的方法明显。2、激光表面
合金化或激光氮化法采用引入N作为
合金元素,通过对取向
硅钢有规则的线状激光氮化,在硅钢表面生成高温稳定的铁氮化合物,既优化磁畴结构,经处理后的硅钢片表观形态也不受影响。国内,东北大学在该技术方面研究颇多。3、传统的单面一次刻槽难以实现刻槽的深度及宽度要求,导致槽的形貌不稳定,难以
保证铁损改善幅度。为克服这些不足,
武钢的研究人员发明了多次激光刻槽法,包括预刻刻槽和精刻刻槽。预刻刻槽的宽度为目标刻槽宽度的60%~80%,深度为目标刻槽深度的30%~50%,相邻两刻槽的间隙为3~6mm。采用激光束对经预刻后线状或点线状刻槽进行再次刻制,使刻槽深度和宽度达到目标值。对精刻后未达到目标值的,进行再次精刻,直至达到目标值。(紫焰)
备注:数据仅供参考,不作为投资依据。